氣液處理器

錄入時間：2019-05-30 09:28:35　

氣液處理器為框架組合式結構，由堿液換熱器，氫、氧分離器，氫、氧洗滌冷卻器，循環泵，堿液過濾器及閥門、管道、管件、氫、氧純度分析儀，氣動薄膜調節閥、一次儀表、框架等組成。

設備構成如圖所示：

氣液處理器內部結構圖

下圖為氣液處理器典型流程圖，電解槽電解產生的氫氣和氧氣經各自通道分別進入氣液處理器，經冷卻、分離、除濕凈化后進入各自儲罐或純化系統；電解液經過濾器去除機械雜質后由循環泵打回電解槽。

氣液處理器按介質可將系統劃分成氫、氧氣體系統，堿液循環系統，水堿補給系統及冷卻水系統。

氫、氧氣體系統

從電解槽出來的氫氣堿液混合體經換熱器降溫，進入氫分離器后，在重力作用下進行氣液分離，氫氣由上層管道進入氫洗滌器，經洗滌器冷卻、洗滌以及捕滴網捕滴，最大限度減少氣體中的含堿量和含水量，最終經薄膜調節閥放空或進入純化裝置。

氧氣處理過程與上述過程相同。

電解液循環系統

氫氧分離器中的堿液經分離器底部的連通管匯集，在循環泵的驅使下經堿液過濾器去除機械雜質，后進入電解槽來參與下一次電解反應，形成閉環系統。洗滌器中洗出的堿液可由溢流管返回氣液分離器。

水堿補給系統

隨著制氫設備的運行，系統內的水不斷消耗并體現在氫氧分離器的液位不斷下降，當液位低于系統設定值時，系統內的加水泵就會自動啟動，將水箱中的水注入氫（氧）洗滌器并溢流至分離器中，當分離器液位上漲至設定上限時，加水泵自動停止工作；當堿液的濃度下降時，也可以將堿箱中少量堿液直接打入電解液循環系統。

由冷卻水總管道來的冷卻水分兩路進入設備，一路通過氣動薄膜調節閥進入堿液換熱器，冷卻循環堿液，通過控制薄膜閥調節冷卻水量，從而使電解槽的工作溫度維持在85±5oC；另一路通過球閥進入氫、氧洗滌器中，來冷卻氣體，降低氣體的含堿量和含水量，確保出口氣體的溫度不高于40oC。